インテル、4150億円かけ新工場 次世代半導体を量産へ
【シリコンバレー=奥平和行】半導体世界最大手の米インテルは18日、50億ドル(約4150億円)超を投じて米アリゾナ州に半導体の新工場を建設すると発表した。今年半ばに着工し、2013年に稼働させる。新工場では回路線幅が14ナノ(ナノは10億分の1)メートルの半導体を生産する。積極的な投資により最先端の製品をいち早く量産し、競争力を維持する。
オバマ米大統領が米オレゴン州の同社工場を訪問したのに合わせて、ポール・オッテリーニ最高経営責任者(CEO)が現地で発表した。インテルは年内にも22ナノメートルの製造技術を使った半導体量産を予定しており、新工場ではその次の世代の製品を作る。
半導体は回路線幅を細くする微細化により性能向上などが可能で、韓国のサムスン電子などの大手は現在、20ナノメートル台への移行を競っている。オッテリーニCEOは新工場について「世界で最先端の半導体量産工場になる」と説明。新工場とは別に米国で11年に約4000人を雇用する方針も明らかにした。米国における社員数は現在4万5000人超。
オバマ大統領は同日の講演で「競争環境がかつてないほどに厳しくなるなか、我が国を事業展開に最も適した場所にする必要がある」と指摘した。法人税率の引き下げなどの意義を強調し、教育への取り組みを強化する方針も示した。大統領諮問機関として設置した「雇用・競争力会議」のメンバーにオッテリーニCEOを起用したことも説明した。